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技术专栏 · 超纯水 TOC 治理
超纯水 TOC 降解:半导体制造绕不开的一环
超纯水如何影响晶圆表面,TOC 为什么必须被降解掉
半导体工厂里,超纯水是用水量很大、水质要求很高的一类水。它不构成芯片的任何一部分,却几乎贯穿每一道工序,直接接触晶圆表面。超纯水的每一项指标都管得很紧,TOC(总有机碳)也在其中。它的数值通常不高,影响却很直接。本文从超纯水的用途说起,再讲清楚 TOC 为什么要降解。
一、超纯水在半导体制造中扮演什么角色
半导体制造是一个反复”清洗—加工—再清洗”的过程。晶圆在光刻、刻蚀、薄膜沉积、化学机械抛光等工序之间,都要反复用超纯水冲洗,冲掉表面残留的颗粒、金属离子和有机污染物。配制药液时要用它稀释,设备和管路的冲洗也离不开它。
超纯水的特殊之处就在这里:它不参与构成产品,却直接接触产品的表面。
超纯水不构成芯片的任何一部分,但它流经的每一个表面,都是芯片本身。
所以超纯水系统要控的指标很多:电阻率、TOC、颗粒物、金属离子、细菌、溶解氧,一项都不能松。任何一项波动,影响都可能一路传到晶圆表面,不会停在水系统里。
二、TOC 是什么,为什么容易被忽略
TOC(Total Organic Carbon,总有机碳)指水中所有有机碳的总量,反映的是有机物的整体水平。
相比颗粒物、金属离子这些有明确限值的指标,TOC 更不容易引起注意。
TOC 的麻烦也在这里,水看起来一样干净。
三、TOC 为什么必须被降解掉
超纯水直接接触晶圆,水里残留的东西就有可能留在表面。有机物更是如此。颗粒相对好办,后续冲洗还能带走一部分;有机物却可能吸附、沉积在晶圆或器件表面。
这些有机残留会带来什么影响,业界关注的有这么几处:
对先进制程来说,这些影响最后都可能落到器件性能和良率上。所以超纯水系统通常在末端单独设一道 TOC 降解,用来把水质稳定在工艺要求范围内,这是必备环节。
TOC 控制要的不只是达标,还要让水质一直保持在低位。
四、让 TOC 真正被降解
传统做法多用吸附和离子交换。有机物从水里被搬到材料上,材料饱和了再再生或更换。紫外光氧化走的是另一条路。
以185-200nm 波长的紫外光照射水体,能在水中引发光化反应,电离水分子产生氧化能力很强的羟基自由基(·OH),将有机碳逐步氧化为二氧化碳(CO₂)和水(H₂O)。
ClearUV 超纯水 TOC 降解器用的就是这个原理:双波长高剂量紫外光激发水分子生成羟基自由基,把水中的有机物氧化降解,从而降低超纯水中的 TOC 含量。它的几个特点写在下面。
选型要按系统的实际要求来配。以电子级 EW-I 超纯水系统为例,TOC 要求 100ppb 以内和 20ppb 以内,对应的配置就不一样。具体型号和流量,还要结合整套系统的水质、水量和工艺要求确定。
五、降解效果怎么确认
TOC 治理里最难说清的就是效果。公司在这一环的做法很直接:把数据测出来、留下来。
前端用紫外光氧化降解,后端用在线检测记录数据,中间不靠主观判断,效果由仪器说话。
六、从 2018 年到现在
广州百诺环保技术有限公司始于 2008 年,是一家做水处理紫外线消毒设备的生产型科技企业。不锈钢材料的切割、冲压、拉伸、焊接、内外抛光,公司都能自己做,紫外线光源和配套电源的检测设备也齐全。
2018 年起,公司把重心放在电子半导体及芯片行业的超纯水 TOC 降解脱除上,陆续研发多款 ClearUV 紫外线脱碳器,可把有机碳降解至 1ppb 以内,目前累计与 50 余家电子科技企业合作。产品长期供给国内外水处理环保公司和大学科研机构使用,全球各地有 30 多万台设备在运行。
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结语
超纯水在半导体制造中不构成产品,却影响产品。水里的 TOC 看不见,它留下的痕迹却可能留在晶圆上。把有机物真正降解掉,再用数据确认效果,超纯水系统才能稳定运行。
如果你的超纯水系统也有 TOC 控制要求,欢迎和我们聊聊。结合水质、水量和工艺要求,我们可以给出选型建议与检测方案。
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